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产品详情

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HS1200G 超高溫氣密熱台

HS1200G高溫熱臺為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用於陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1200℃ 範圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔,且樣品區偏離視窗center,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應,又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發物。此外另有真空腔型號HS1200V提供。
细节展示:
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功能特點

 

適用於 顯微鏡/光譜儀    的超高溫應用

30℃~1200℃    可編程控溫

Φ12 mm加熱區

可充入保護氣體的氣密腔

可從溫控器或電腦軟件控制,可提供軟件SDK

*可做定制或改動,詳詢大奖ptpt9

溫控參數

 

溫度範圍

30℃ ~ 1200℃

加熱塊材質

耐高溫陶瓷

傳感器/溫控方式

S型熱電偶 / PID控制

加熱速度

+200℃/min    (100℃時)

加熱/制冷速度

±0.5℃/min

溫度分辨率

0.1℃

溫度穩定性

±1℃

軟件功能

可設溫控速率,可設溫控程序,可記錄溫控曲線

光學參數

 

適用光路

透射光路 和 反射光路

窗片

可拆卸與更替的窗片

物鏡工作距離

≥9 mm  *截面圖中WD

聚光鏡工作距離

≥15.5 mm     *截面圖中CWD

透光孔

Φ2 mm  *截面圖中ΦVA

上蓋窗片觀察

窗片範圍Φ38mm,視角±24.5°  *截面圖中θ1

底部窗片觀察

視角±10°     *截面圖中θ2

負溫下窗片除霜

吹氣除霜

結構參數

 

加熱區/樣品區

Φ8mm或16mm*16mm

樣品腔高

5 mm

*樣品厚度范围 = 樣品腔高 – 樣品襯底厚度

樣品襯底

默認為藍寶石墊片

(內徑4mm/厚0.5mm)

氣氛控制

氣密腔,可充入保護氣體 *另有真空腔型號

外殼冷卻

通循環水,以維持外殼溫度在常溫附近

安裝方式

水平安裝 或 垂直安裝

臺體尺寸/重量

200 mm x 120 mm x    30 mm / 1350g

配置列表

 

基本配置

HS1200G高溫熱臺 、mK2000B溫控器 、外殼循環水冷系統

可選配件

冷熱臺安裝支架 、真空系統(僅用於真空型號) 、樣品接電引線

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