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产品详情

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HS1500 真空腔/氣密腔

HS1500是溫度可達1500℃的熱台,適用于制陶、冶金、地質、高溫材料等領域。冷熱台內為氣密腔,可升至真空腔,氣密腔可充入保護氣體可防止樣品高溫時發生氧化;真空腔內可抽真空,也可充入保護氣體,並支持抽真空後通入氣氛這樣的複雜操作。
细节展示:
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功能特點

 

可程式設計精密控溫。可獨立控制,也可從上位機軟體控制

石英視窗窗片,可替換的藍寶石襯底,適用1500℃級高溫

支援透射光觀察與反射光觀察

氣密腔室,2個通向腔內的快速自鎖接頭,可充入保護氣體

視窗可拆卸與更換,可用不同材質窗片實現不同波段光觀察

視窗外側設有吹氣冷卻管道,保護物鏡

內蓋,增加樣品溫度均勻度

真空棒,通過真空吸附來移動襯底

軟體可拓展性好,可提供LabView等語言的SDK

#升級項# 性能可升級,詳見 配置清單

#選擇項# XY微分移動尺型號

可做改動或定制,詳詢大奖ptpt9

 

 

應用領域

 

 

常規應用

納米光學

光譜學

地質/流體包裹體

制陶

冶金

X射線衍射

高溫材料

 

 

技術參數

 

溫度範圍

室溫 ~ 1500

溫度解析度

0.001

溫度精度

±2(<600),±3(600)

溫度穩定性

±1(<600),±2(600)

可增加穩定性

加熱速度

+300/分鐘(at 100)

控溫速度

±1/小時

溫度感測器

S型熱電偶

溫控方式

開關式PID 可升為LVDCPID

物鏡工作距離

9.5 mm

聚光鏡工作距離

15 mm

樣品腔面積

7.5 mm直徑圓 (通常)

  可按用戶要求定制

樣品腔高度

3 mm

樣品觀察範圍

2 mm 透光孔徑

38.5 mm 反光孔徑


 

 

配置清單

 

HS1500G氣密腔高溫熱台

1

HS1500V真空腔高溫熱台

mK2000溫度控制器 軟體免費,控制線有多種接口供選

外殼水冷配件 用常溫水或冰水迴圈防止外殼過熱

氣密腔型號的上蓋窗片 升為 載玻片方案

  詳見 更多細節

 

氣密腔      升為  真空腔 (KF16介面),具體如下:

HS1500G     升級後型號對應  HS1500V

 

冷熱台支架 把冷熱台固定在顯微鏡等儀器上,防止滑動


長工作距離聚光鏡 更好的聚光,防止視場變暗


溫控聯動顯微鏡相機 溫度-圖像聯動工作,附軟體


線性可變直流電源(LVDC) 裝在溫控器裡,抑制電噪音

 

真空系統(真空腔型號適用) 真空泵、真空計、真空管路


*注:產品有多種配置變化,詳詢大奖ptpt9


 

 

更多細節

 

   HS1500氣密型號的上蓋視窗能升級為載玻片方案。高溫熱台的上蓋有凹槽供載玻片滑動,並通過金屬壓片將載玻片固定在視窗的密封圈上。

這種設計適合會在高溫下揮發的樣品。如果樣品揮發物弄髒了載玻片,用戶可以滑動載玻片,將未污染部位移至觀察窗,從而繼續觀察樣品。


 

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